Opt-Pecvd 1200 Pecvd Fırını
Opt- Pecvd 1200 Pecvd Fırını çok çeşitli filmlerin biriktirilmesi için iyi kurulmuş bir tekniktir. Birçok cihaz tipi, yüksek kaliteli pasivasyon veya yüksek yoğunluklu maskeler oluşturmak için PECVD gerektir.
Opt-Pecvd 1200 Pecvd Fırını
PECVD, çok çeşitli filmlerin biriktirilmesi için iyi kurulmuş bir tekniktir. Birçok cihaz tipi, yüksek kaliteli pasivasyon veya yüksek yoğunluklu maskeler oluşturmak için PECVD gerektirir.
Opt-Pecvd 1200 Pecvd Fırını Teknik Özellikler
- Maksimum Sıcaklık : 1200°C ayrıca,
- Devamlı Çalışma Sıcaklığı : 1100 °C ayrıca,
- Kontrol Paneli : Windows İşletim Sistemi Tabanlı LCD Dokunmatik Ekran ayrıca,
- Programlanabilme : 30 adım programlanabilme özelliği ayrıca,
- Isıtma Elementi : Fe-Cr-Al alaşımı katkılı Mo ayrıca,
- Thermocouple : S tipi ayrıca,
- Tüp: Quartz ayrıca,
- Tüp Çapı : Opsiyonel olarak belirlenebilir. Standart tüpler 50mm OD x 1000 mm uzunluğa sahiptir.
- Isıtma Hızı : Maksimum 20 °C / dk. Ortalama 10 °C/dk
Isıtma Bölgesi : Opsiyonel olarak 300-400-500 mm olarak tercih edilebilmektedir. Ayrıca sistemler standart olarak tek ısıtma bölgesine sahiptir. Ancak tercih edildiği takdirde birbirinden bağımsız çalışabilen üç ısıtma bölgeli tasarlanabilmektedir.
Termal Kontrol Sistemi ve Hassasiyeti : PID kontrol sistemi ile ±1 °C hassasiyet
Bağlantı : 220V 50-60Hz
Sistem tüpe bağlanacak vakum flanşları (paslanmaz çelikten imal edilmiş) ve manuel vakum manometresi içerir.
Sisteme vakum pompası dahildir.
CVD-PECVD FIRINLAR
Kimyasal biriktirme (Chemical Vapor Deposition) işlemlerinde kullanılmaktadır. Özellikle ince film büyütme Grafen(Graphen) Li-Ion batarya çalışmalarında AR-GE laboratuvarları tarafından tercih edilmektedir.
Bilgisayar kontrollü MFC gaz dağıtım sistemi ile çok hassas şekilde akış denetimi yapabilmektedir.
Windows tabanlı tüp fırın ve Rotary veya Turbo moleküler pompa sistemi ile istenilen vakum seviyesi kolayca ulaşılabilmektedir.
Kullanıcı isteğine bağlı olarak çok tipte CVD (kimyasal buharlaştırama) sistemi üretilebilmektedir.
Opt- Pecvd 1200 Pecvd Fırını
MFC Teknik Özellikleri
- Standart CVD sistemleri 0-200 sccm gaz akış debisi aralığında 3 bağımsız kütle akış kontrolörü içerir.
- MFC’lerin sayısı 1-4 arasında tercih edilebilir ve debisi 0-500 sccm aralığına kadar opsiyonel olarak yükseltilebilir.
- Kontrol Paneli : Windows işletim sistemi tabanlı LCD Dokunmatik ekran
- Plazma Ünitesi Teknik Özellikleri
- Çıkış Gücü : 5-500W ±1% hassasiyet ile
- Frekansı : RF 13.56 Mhz ±0.05% hassasiyet ile
- Gürültü Seviyesi : <50Db
- Soğutma : Hava soğutmalı
- Bağlantı : 220 V 50-60 Hz
