Maskless Lithography
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları), her görüntüleme projektöründe Dört Dalga Boylu Yarı İletken ışık kaynakları kullanır. Bu, müşterilerinin tercih ettiği fotorezist veya lehim maskesi tipinin pozlama optimizasyonunu sağlar. Artırılmış DI verimi için, saha içi yükseltme olarak da çok kafalı sistemler mevcuttur. Işık Kaynakları, sahada Swap ve Go ile değiştirilebilir.
Maskless Lithography Nedir?
Maskless lithography (maskesiz litografi) Mask Writer geleneksel fotolitografinin aksine, fotomaske veya şablon kullanmamaktadır. Böylelikle yarı iletken ve mikrosistem teknolojilerinde mikro ve nano ölçekte desenleme yapma yöntemidir. Böylece bu teknik, doğrudan bir yüzeye desenleme yapabilen özel bir ışık kaynağı ve ölçüm sistemi kullanmaktadır.
Maskesiz Litografi ‘nin temel amacı şu şekildedir. Üretim süreçlerini daha esnek ve maliyet etkin hale getirerek özellikle entegre devre (IC) üretiminde ve mikroelektronik endüstrisinde kullanılan geleneksel fotolitografi yöntemlerinin sınırlamalarını aşmaktır. Böylece bu yöntem, daha karmaşık desenleri oluşturabilme, prototip üretimini hızlandırabilme ve özel tasarımlara uyum sağlama yeteneği ile dikkat çeker. Ayrıca Maskless lithography, nanoteknoloji ve mikrofabrikasyon uygulamalarında daha fazla esneklik ve özelleştirme sağlamaktadır. Böylelikle de sürekli olarak geliştirilmektedir.
MIVA Mask Writer Maskless Lithography
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları), her görüntüleme projektöründe Dört Dalga Boylu Yarı İletken ışık kaynakları kullanmaktadır. müşterimizin tercih ettiği fotorezist veya lehim maskesi tipinin pozlama optimizasyonunu sağlar. Ayrıca artırılmış DI verimi için, saha içi yükseltme olarak da çok kafalı sistemler mevcuttur. Böylelikle ışık Kaynakları, sahada Swap ve Go ile değiştirilebilmektedir.
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları): Filmlerin veya maskelerin yüklenmesi ve boşaltılması için ortama uygun güvenli aydınlatmaya sahip bir oda gereklidir. Ayrıca pozlama sırasında görüntüleyici hafiftir ve normal çalışma ışıkları açılabilmektedir.
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları) sistemleri çok çeşitli görüntüleme çözünürlükleri sunmaktadır. (3 000 dpi’den 128 000 dpi’ye kadar)
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları) sistemleri, piyasada mevcut olan en küçük nokta boyutlarından birine sahiptir (minimum 0,8 mikrondur). Bu nedenle yüksek kaliteli ve yüksek süreklilik ile çok ince çizgiler oluşturabilmektedir.
MIVA Mask Writer Genel Özellikleri
|
20nm 0,4µm (3σ): 2,5 µm |
|
H: 63” / 160 cm, B: 48” / 122 cm, T: 60” / 153 cm; Ağırlık: 865 kg |
|
60L/min @ 6 bar için entegre gaz filtreleme sistemi veya isteğe bağlı hava kompresörü |
|
DMD Rester Görüntü Projeksiyon Teknolojisi/ Katı hal UV ışık kaynakları |
|
21°C % 50 RH |
|
Gerber RS ‘274-X, PostScript, TIFF, isteğe bağlı diğerleri |
|
2″x2″
12″x12″ |
|
Optik (kamera) hizalama sistemleri ± 15 µm |
Maskless Lithography özelliklerine sahip olan ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.