Magnetron Sputtering Kaplama Sistemleri OPT-190S-1T-RF
-Magnetron püskürtme, genellikle 2Pa dahilinde yüksek bir çalışma vakumuna sahiptir ve
moleküler pompa ile kullanılması gerekiyor.
-Yüksek oksijensiz bir ortam elde etmek için vakum odası
en az 3 kez yüksek saflıkta inert gazla temizlenmelidir.
-Magnetron püskürtme hava girişine duyarlıdır, dolayısıyla kütle akış ölçer
hava girişini kontrol etmek için gerekli
Magnetron Sputtering Kaplama Sistemleri Cihazı Ne İşe Yarar?
Magnetron Sputtering Kaplama Sistemleri malzemelerin yüzeyine ince, homojen ve özel özelliklere sahip kaplamalar uygulamak için kullanılan bir teknolojiye dayanmaktadır. Bu sistemler genellikle endüstriyel üretim, araştırma laboratuvarları ve malzeme geliştirme alanlarında kullanılmaktadır. İşte Magnetron Sputtering Kaplama Sistemleri’nin temel işlevleri:
Kaplama ve Kaplama Çeşitliliği:
Magnetron sputtering sistemi, çeşitli malzemelerin ince katmanlar halinde bir yüzey üzerine uygulanmasına olanak tanır. Bu kaplamalar, metal, seramik, yarıiletken veya bileşen tabanlı olabilmektedir. Bu, malzemenin özelliklerini geliştirmek, dayanıklılığını artırmak, iletkenliği düzenlemek veya optik özellikleri değiştirmek için kullanılabilmektedir.
Yüksek Kaliteli Kaplama:
Magnetron sputtering, homojen, ince ve düzgün kaplamalar üretebilmektedir. Bu özellik, yüzeyin istenilen özelliklere sahip olmasını sağlamaktadır. Aynı zamanda malzemenin performansını artırır.
Ince Filmlerin Kontrollü Üretimi:
Magnetron sputtering, çok ince filmlerin hassas bir şekilde üretilmesini sağlar. Bu, mikroelektronik cihazlar, güneş panelleri, sensörler ve optoelektronik cihazlar gibi birçok uygulama alanında önemlidir.
Yüksek Verimlilik:
Bu sistemler genellikle yüksek verimlilikle çalışır. Yüksek vakum altında malzeme yüzeyine uygulanan kaplama, istenilen özellikleri elde etmek için optimal koşulları sağlar.
Uygulama Alanları:
Cam, metal, seramik, plastik ve diğer birçok malzemenin kaplanmasında kullanılabilir. Bu, endüstriyel üretimde, elektronikte, enerji sektöründe, tıbbi cihazlarda ve optoelektronik uygulamalarda çeşitli alanlarda kullanılmaktadır.
Sonuç olarak, Magnetron Sputtering Kaplama Sistemleri malzemelerin yüzey özelliklerini geliştirmek, dayanıklılıklarını artırmaktadır. Veya belirli işlevleri kazandırmak için kullanılan etkili bir kaplama teknolojisidir.
Magnetron Sputtering Kaplama Sistemleri OPT-190S-1T-RF Teknik Özellikleri
- Püskürtme güç kaynağı: RF güç kaynağı 300W; maksimum çıkış voltajı 600V,sınırlı akım çıkışı 500mA
- Magnetron hedefi:2 inç denge hedefi,manyetik bağlantı saptırma plakası ayrıca;
- Uygun hedef malzeme: φ50mm x 3mm kalınlık
- Boşluk boyutu: dış çap194, iç çap186mm x yükseklik 230mm
- Boşluk malzemesi: 304 paslanmaz çelik
- Dönen ısıtma örnek tablosu: Hızı sürekli olarak 1~20rpm döndürün
- ayarlanabilir; maksimum ısıtma sıcaklığı 500°C; önerilen en düşük sıcaklık
- ısıtma hızı 10°C/dak, önerilen en yüksek ısıtma hızı 20°C/dk. ayrıca,
- Soğutma modu: manyetik hedef ve moleküler pompanın sirkülasyona ihtiyacı vardır
- Su soğutma makinesi: tank hacmi 9L, akış hızı 10L/dak
- Gaz besleme sistemi: kütle akış ölçer, Argon gazı türü, akış 1~30sccm (özelleştirilebilir)
- Akış ölçerin doğruluğu:±%1,5 ölçüm aralığı
- Vakum odasının hava pompalama arayüzü KF25’tir ayrıca,
- Hava giriş arayüzü 1/4 inç çift halkalı bağlantıdır
- Dokunmatik ekran 7 inç renkli dokunmatik ekrandır
- Ayarlanabilir püskürtme akımı,püskürtme güvenlik akımı değeri ve güvenliği vakum değeri ayarlanabilir;
- Güvenlik koruması: aşırı akım, vakum çok düşük otomatik olarak kesilir
- Nihai vakum: 5E-4Pa (eşleşen moleküler pompa) ayrıca;
- Vakum ölçümü Parana vakum ölçerdir, aralık: 1~105Pa
Benzer ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.