Direct-Maskless Litography (Low- Cost)
- 4″x4″ yazı alanı
- ≤ 3 µm çizgi kalınlığı
- Kompakt dizayn
- Glove box ve fume hood entegrasyonu
- Entegre Confocal mikroskop
- 405 nm – 375 nm lazer dalga boyu
- SU-8 Prosesi
- Kullanıcı dostu yazılım
- Uygun fiyat
Direct Maskless Litography (Doğrudan Maskesiz Litografi) Özellikleri
- 4″x4″ yazı alanı
- ≤ 3 µm çizgi kalınlığı
- Kompakt dizayn
- Glove box ve fume hood entegrasyonu
- Entegre Confocal mikroskop
- 405 nm – 375 nm lazer dalga boyu
- SU-8 Prosesi
- Kullanıcı dostu yazılım
- Uygun fiyat
Direct Maskless Litography , Litografi sistemleri temelde maske hizalayıcı (mask aligner) ve ayrıca maskesiz litografi (maskless lithography) olmak üzere iki ana metot ile çalışan bir sistemlerdir.
Maske hizalayıcı (mask aligner) sistemleri daha az kritik uygulamalarda tercih edilen, gölge baskı tekniğine dayanan sistemlerdir. Maske hizalayıcı litografi sistemleri kullanılmak istenen geometrik desenin daha önce oluşturulmuştur. Oluşturulan bu fotomaskeden bir wafer veya alttaş üzerindeki ışığa duyarlı bir alana aktarılması prensibiyle çalışır.
Maske hizalayıcı (mask aligner) lithography sistemleri başta MEMS/NEMS, LED, OLED ,mikrooptik ve ayrıca fotovoltaik çalışmaların temelini oluşturan sistemlerdir.
Maskesiz litografi (maskless lithography) sistemleri ise maske hizalama sistemlerinin aksine bir fotomaskeye ihtiyaç duymaz. Böylece wafer ya da alttaş üzerine paternlerin (litografide kullanılacak desenlerin) yazılmasını, radyasyonun dar bir ışın demetine uygulanması ve bu ışın demetinin görüntüyü direkt olarak numuneye yazması prensibi ile çalışan oldukça hassas uygulamalara uygun sistemlerdir.
Maskesiz litografi sistemleri, laboratuvar ve AR-GE çalışmalarında fotomaske gereksinimini ortadan kaldırır. Ayrıca farklı desenlerin uygulanmasında sıklıkla tercih edilen, sarf maliyeti olmadan çalışan, gelişmiş ve avantajlı fiyatlara sahip sistemlerdir.
Maskesiz fotolitografi (maskesiz optik litografi olarak da bilinir) işleminde ışığa duyarlı emülsiyonun (ya da fotorezistin) maruz kaldığı radyasyon bir fotomaskeden çıkmaz ya da iletilmez. Radyasyon, bunun yerine, görüntüyü fotoreziste piksel piksel direkt olarak yazan dar bir ışın demetine odaklanır. Maskesiz fotolitografinin temel avantajlarından biri yeni bir fotomask üretme maliyeti yoktur. Böylelikle litografi desenlerini (paternlerini/örüntülerini) işlemler arasında değiştirebilmektir. Ayrıca bu avantaj çift desenlemede çok kullanışlıdır.
Direct Maskless Litography özelliği bulunan ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.
