Direct Imager Class
MIVA Direct Imager (Doğrudan Görüntüleme) sistemleri çok çeşitli görüntüleme çözünürlükleri sunar (3 000 dpi’den 128 000 dpi’ye kadar).MIVA görüntüleyiciler, piyasada mevcut olan en küçük nokta boyutlarından birine sahiptir (minimum 0,8 mikrondur) ve bu nedenle yüksek kaliteli ve yüksek süreklilik ile çok ince çizgiler oluşturabilir.
MIVA Direct Imager (Doğrudan Görüntüleme) sistemleri çok çeşitli görüntüleme çözünürlükleri sunar. (3 000 dpi’den 128 000 dpi’ye kadar)
MIVA Direct Imager, (Doğrudan Görüntüleme), piyasada mevcut olan en küçük nokta boyutlarından birine sahiptir. (minimum 0,8 mikrondur) Bu nedenle yüksek kaliteli ve yüksek süreklilik ile çok ince çizgiler oluşturabilmektedir.
Tüm MIVA Doğrudan Görüntüleme cihazları, konumlandırma doğruluğu, aynı zamanda çizim sırasında tüm çizim alanı üzerinde doğru model konumlandırma sağlayan bir kapalı döngü sisteminde çalışmaktadır. Böylelikle bu sistemde 1,0 mikron veya 0,1 mikron çözünürlüklü doğrusal konumlandırma kodlayıcıları tarafından dinamik olarak kontrol edilmektedir.
Direct Imager (Doğrudan Görüntüleme) Cihazlarının Özellikleri
|
±0,4 mil / 9 µm |
|
H; 69″/175 cm , W; 48″/ 122 cm, D;60″/153 cm; Ağırlık : 865 kg |
|
60L/min @ 6 bar için entegre gaz filtreleme sistemi veya isteğe bağlı hava kompresörü |
|
DMD Rester Görüntü Projeksiyon Teknolojisi/ Katı hal UV ışık kaynakları |
|
21°C % 50 RH |
|
Gerber RS ‘274-X, PostScript, TIFF, isteğe bağlı diğerleri |
|
2″x2″
12″x12″ |
|
Optik (kamera) hizalama sistemleri ± 15 µm |
Litografi sistemleri temelde şu ana metotlarla çalışmaktadır. Maske hizalayıcı (mask aligner) ve maskesiz litografi (maskless lithography) olmak üzere iki ana metot ile çalışmaktadır.
Maske hizalayıcı (mask aligner) sistemleri daha az kritik uygulamalarda tercih edilmektedir. Ayrıca gölge baskı tekniğine dayanan sistemlerdir. Böylece maske hizalayıcı litografi sistemleri kullanılmak istenen geometrik desenin daha önce oluşturulmuş bir fotomaskeden bir wafer ya da alttaş üzerindeki ışığa duyarlı bir alana aktarılması prensibi ile çalışır.
Maske hizalayıcı (mask aligner) lithography sistemleri başta MEMS/NEMS, LED, OLED ,mikrooptik ve ayrıca fotovoltaik çalışmaların temelini oluşturan sistemlerdir.
Maskesiz litografi (maskless lithography) sistemleri ise maske hizalama sistemlerinin aksine bir fotomaskeye ihtiyaç duymaz. Wafer ya da alttaş üzerine paternlerin (litografide kullanılacak desenlerin) yazılmasını, radyasyonun dar bir ışın demetine uygulanması ve bu ışın demetinin görüntüyü direkt olarak numuneye yazması prensibi ile çalışan oldukça hassas uygulamalara uygun sistemlerdir.
Maskless Lithography sistemleri, laboratuvar ve AR-GE çalışmalarında fotomaske gereksinimini ortadan kaldırır. Ayrıca farklı desenlerin uygulanmasında sıklıkla tercih edilmektedir. Böylelikle sarf maliyeti olmadan çalışan, gelişmiş ve avantajlı fiyatlara sahip sistemlerdir.
Benzer ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.
