Anric AT410 Atomic Layer Deposition
Anric AT410 Atomic Layer Deposition, yüksek verimlilik ve düşük maliyetle termal ALD süreçleri sunar. Kompakt masaüstü tasarımı, yüksek sıcaklık uyumluluğu ve hızlı pulslama vanalarıyla üstün performans sağlar. Kolay kullanım ve güvenlik özellikleriyle, endüstriyel ve araştırma uygulamaları için idealdir.
Anric AT410 Atomic Layer Deposition (ALD), en uygun maliyetle yüksek performans sunan termal ALD cihazlarındandır. Ayrıca bu kompakt masaüstü sistemi, yüksek hassasiyetli ve verimli bir kaplama süreci sunar. ALD teknolojisi, atomik düzeyde ince film kaplamaları için mükemmel bir yöntem sunar. Aynı zamanda Anric AT410 ALD, bu süreci daha erişilebilir hale getirir. Böylelikle gelişmiş özellikleri ve kullanıcı dostu tasarımıyla, araştırma ve endüstriyel uygulamalar için idealdir.
Öne Çıkan Özellikler
- Küçük Ayak İzi: Anric AT410 ALD, yalnızca 2.5 ft² (0.15m³) alan kaplayarak, sınırlı alanlarda kullanım için mükemmeldir.
- Yüksek Sıcaklık Uyumluluğu: 320°C’ye kadar ısınabilen tüm alüminyum odası ve 180°C’ye kadar ısınabilen öncücü hatlara sahiptir. Böylece yüksek sıcaklık işlemleri gerçekleştirilebilmektedir.
- Yüksek Hassasiyetli Pulslama Vanaları: Hızlı pulslama vanaları, inert gaz geçişi için entegre edilmiş ultra hızlı MFC ile birlikte gelir.
- 4” Dönel Çıkartma: Küçük boyutlar veya farklı şekiller için özelleştirilebilmektedir.
- Gelişmiş Kontrol Sistemi: 7” dokunmatik PLC ekranı sayesinde, bilgisayara ihtiyaç duymadan işlemler kolayca kontrol edilebilmektedir.
Anric AT410 ALD Teknik Özellikler
| Özellik | Değerler |
|---|---|
| Odacık Sıcaklığı | RT – 320°C ± 1°C |
| Öncücü Sıcaklıkları | RT – 180°C ± 2°C (Isıtma Jaketi) |
| Çıkartma Boyutu | 4” Dönel, özelleştirilebilmektedir |
| Pulslama Hızı | Yüksek hızda ALD işlemleri |
| Ekran Kontrolü | 7” dokunmatik PLC ekranı |
İleri Seviye Özellikler ve Opsiyonlar
- Yüksek Kapasiteli Alt Üst Kontrol: Üç organometalik öncücü ve iki (üç olabilen) karşı reaksiyon maddesi ile işleme yapabilme imkânı.
- Özel Çıkartma/Platen Seçenekleri: Küçük parçalar, tozlar veya özel şekiller için uyarlanabilmektedir.
- Ozon Üreteci (ATOzone): Bazı filmler için (örneğin Pt, Ir, SiO2) ozon üretimi gereklidir.
- Hollow Cathode Plasma Yükseltmesi: Plasma teknolojisi ile kaplama kalitesi artırılabilmektedir.
Yüksek Güvenlik ve Kolay Kullanım
Anric AT410 ALD, kullanıcı dostu yazılımı ve güvenlik donanımlarıyla donatılmıştır. Sistemdeki tüm donanım ve yazılım güvenlik kilitleri, çok kullanıcılı ortamlarda bile güvenli kullanım sağlar. Ayrıca, yazılım sürekli olarak güncellenir ve her bir yıl için garanti sunulur.
Anric AT410 Atomic Layer Deposition, yüksek verimlilik, esneklik ve güvenlik sunmaktadır. Böylece ALD uygulamalarında bir adım öne geçmenizi sağlar. Gelişmiş özellikleri ve kompakt tasarımıyla araştırma laboratuvarlarından endüstriyel tesislere kadar geniş bir kullanım alanına sahiptir.
