Litografi sistemleri temelde maske hizalayıcı (mask aligner) ve maskesiz litografi (maskless lithography) olmak üzere iki ana metot ile çalışan sistemlerdir.
Maske hizalayıcı (mask aligner) sistemleri daha az kritik uygulamalarda tercih edilmektedir. Gölge baskı tekniğine dayanan sistemlerdir. Maske hizalayıcı litografi sistemleri kullanılmak istenen geometrik desenin daha önce oluşturulmuştur. Bir fotomaskeden bir wafer ya da alttaşı üzerindeki ışığa duyarlıdır. Bir alana aktarılması prensibi ile çalışır.
Mask aligner (maske hizalayıcı) litografi sistemleri başta MEMS/NEMS, LED ,OLED ,mikrooptik, fotovoltaik çalışmaların temelini oluşturan sistemlerdir.
Maskesiz litografi (maskless lithography) sistemleri ise maske hizalama sistemlerinin aksine bir fotomaskeye ihtiyaç duymaz. Wafer ya da alttaşı üzerine paternlerin (litografide kullanılacak desenlerin) yazılması prensibine sahiptir. Radyasyonun dar bir ışın demetine uygulanmasıdır. Bu ışın demetinin görüntüyü direkt olarak numuneye yazması prensibi ile çalışmaktadır. Ayrıca hassas uygulamalara uygun sistemdir.
Maskless Lithography (Litografi) sistemleri, laboratuvar ve AR-GE çalışmalarında fotomaske gereksinimini ortadan kaldırır. Farklı desenlerin uygulanmasında sıklıkla tercih sebebidir. Sarf maliyeti olmadan çalışan, gelişmiş ve avantajlı fiyatlara sahip sistemlerdir.
Maskless lithography
Mask Writer geleneksel fotolitografinin aksine, fotomaske veya şablon kullanmadan yarı iletken ve mikrosistem teknolojilerinde mikro ve nano ölçekte desenleme yapma yöntemidir. Bu teknik, doğrudan bir yüzeye desenleme yapabilen özel bir ışık kaynağı ve ölçüm sistemi kullanır. Maskesiz Litografi ‘nin temel amacı, üretim süreçlerini daha esnek ve maliyet etkin hale getirmektir. Özellikle entegre devre (IC) üretiminde ve mikroelektronik endüstrisinde kullanılan geleneksel fotolitografi yöntemlerinin sınırlamalarını aşmaktır. Bu yöntem, daha karmaşık desenleri oluşturabilmektedir. Prototip üretimini hızlandırabilme ve özel tasarımlara uyum sağlama yeteneği ile dikkat çeker. Maskless lithography, nanoteknoloji ve mikrofabrikasyon uygulamalarında daha fazla esneklik sunmaktadır. Özelleştirme sağlamak amacıyla sürekli olarak geliştirilmektedir.
